日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302

光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件！

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詳細(xì)介紹

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302 特點(diǎn)介紹

光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件！

本發(fā)明公開了一種光掩模，該光掩模是通過(guò)在玻璃等上形成用于半導(dǎo)體制造工藝的圖案而獲得的，

該光掩模的表面上附著有細(xì)小的灰塵等，該光掩模是通過(guò)在玻璃等上形成用于半導(dǎo)體制造工藝的圖案而獲得的。

需要優(yōu)良的清潔技術(shù)，因?yàn)檎掣降幕覊m和污物影響圖案轉(zhuǎn)移，并在很大程度上影響產(chǎn)量。本裝置是藥液兼用的掩模清洗裝置。

附著在掩模上的抗蝕劑分為通常工藝附著的輕度污染、測(cè)試用途和長(zhǎng)時(shí)間未清洗保管的使用履歷不清楚的掩模等所看到的頑固污染兩種。

通過(guò)使用適合污染程度的藥液,可以節(jié)約時(shí)間、勞力、經(jīng)費(fèi),提高清洗效率。

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302 規(guī)格參數(shù)

1用一臺(tái)設(shè)備快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。

2用擦洗清洗專用刷子，不劃傷工件，可以進(jìn)行精密清洗，沒(méi)有清洗不均勻。

3因?yàn)槭橇⑹教幚恚栽O(shè)計(jì)時(shí)不會(huì)給工件帶來(lái)壓力。

4小批量，多品種，適用于研發(fā)應(yīng)用的基板清洗。

5干燥，熱純水干燥。

用途

光掩模:半導(dǎo)體，液晶，有機(jī)EL，彩色濾光片，薄膜器件，IC封裝，PWB，PCB，F(xiàn)PC等，板狀基板等可清洗。

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